出品丨自主可控新鲜事
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美商务部再禁6项新兴技术，包括光刻软件和5nm生产技术！
日前，最新消息：美国商务部工业安全局（BIS）又对六项新兴技术实施了管控，宣布将六项新兴技术添加到《出口管理条例》（EAR）的商务部管制清单（CCL）中。而这其中包括了极紫外线（EUV）掩模的计算光刻技术软件和5nm 生产精加工芯片的技术，两条直指了对芯片的制造的封锁。
据了解，目前受到出口管制的新兴技术总数已经达到了37项。美国商务部在官网发布公告中写道：“此举是为了支持关键及新兴技术这一国家战略”。
本次被增列商业管制清单的六项新兴技术为：
据了解，目前受到出口管制的新兴技术总数已经达到了37项。美国商务部在官网发布公告中写道：“此举是为了支持关键及新兴技术这一国家战略”。“关键技术和新兴技术国家战略是保护美国国家安全，确保美国在军事、情报和经济事务中保持技术领先地位的重要战略部署。”美国商务部部长Wilbur Ross说道，并表示“美国商务部已经对30多种新兴技术的出口实施了管控，我们将继续评估和确定未来还有哪些技术需要管控。”彻底封锁芯片先进制造工艺
公告指出，最新的商业出口管制是依照2019年12月全体大会上达成的协议——《常规军备和两用物品及技术出口管制瓦森纳协议》实施的。制定和实施对新兴技术的多边控制符合《2018年出口控制改革法案》（ECRA）的要求后，最终确定管控下列几项新兴和基础性技术的出口将对美国国家安全起到至关重要的作用。美国实施出口管制的六大技术，都与芯片制造中最重要的设备光刻机息息相关，尤其是当下5nm芯片已成为高端芯片时代的主流产品，EUV光刻机在半导体制程的重要意义可想而知。“用于制造极紫外线掩模的计算光刻技术软件”涵盖EUV光刻所需的特定软件，包括与三维（3D）效应、掩模阴影效应、光照方向效应、远距离眩光效应、邻近效应、抗蚀剂中的随机性效应以及源掩模优化有关的软件，这类软件是在晶圆上做出经过优化的光刻胶图案必需的软件；而“用于为5nm生产精加工芯片的技术”旨在应用于面向5nm生产的晶圆，包括对直径300 mm的硅晶圆进行切片、打磨和抛光以达到某些标准所需要的技术，以及尽量减小平坦度（或SFQR）和表面缺陷的技术以及局部光散射体(LLS)。以上两类技术都受到国家安全和反恐管制的约束。目前全世界唯一能生产EUV光刻机的企业只有荷兰ASML公司，而ASML最大的两大股东资本国际集团(MSCI)和贝莱德集团(BlackRock,Inc.)都是美国公司，其用于打造EUV光刻机的高精技术也有不少为美国所持有。美国商务部此举相当于直接封锁了高端芯片的制造技术，针对的是谁不用多说。从目前来看，中国作为美国芯片产品最大的采购国之一，受出口管制影响是巨大的。这是BIS自2018年通过ECRA法令以来实施的第四套新兴技术管控措施。BIS在此之前曾公布了三份联邦文件通知，对航空航天、生物技术、化学、电子、加密、地理空间图像和海洋领域的31项新兴技术实施了管制，其中大多数是在多边支持下实施的。其中包括因化学/生物和反恐理由而受管制的24种化学武器前体，以及：- 分立微波晶体管（Discrete microwave transistors）
- 操作软件的连续性（Continuity of operation software）
- Post-quantum密码学（Post-quantum cryptography）
- 用作水听器工作的水下传感器（Underwater transducers designed to operate as hydrophones）
- 空中发射平台（Air-launch platforms）
- 地理空间图像软件（单侧）（Geospatial imagery software(unilateral)）
- 一次性生物培育箱（Single-use biological cultivation chambers）
总体而言，受新管制影响最大的几个行业是航空航天、生物技术、化学、电子、加密、地理空间图像和海洋行业。正如BIS所承诺的那样，新兴技术是加以严格定义的，几乎都受到多边管制的约束。需要注意的是，根据ECRA规定，商务部工业安全局已于2020年8月27日起就基础技术鉴定征求公众意见，公众意见征询期将持续到2020年11月9日，也就是说，未来或许还会有更多新兴和关键技术被列入出口管制清单的可能。受管制新兴技术具体解释
如下所述，该规则将一个新的出口管制分类编号(ECCN)添加到CCL，并修订了另外五个ECCN。混合增材制造(AM)/计算机数控(CNC)工具受ECCN 2B001管制。该规则阐明，除车削、铣削或磨削能力外还拥有增材制造能力的机床适用于ECCN 2B001。因此，即使增材制造能力添加到设备中，归类为ECCN 2B001的机床仍可能归类为该ECCN。该规则不管制一般的增材制造设备。ECCN 2B001的产品受到国家安全、核不扩散和反恐管制的约束。为制造极紫外(EUV)掩模而设计的计算光刻软件添加到ECCN 3D003：ECCN 3D003已扩大范围，涵盖EUV光刻所需的特定软件，包括与三维(3D)效应、掩模阴影效应、光照方向效应、远距离眩光效应、邻近效应、抗蚀剂中的随机性效应以及源掩模优化有关的软件。这类软件是晶圆上做出经过优化的光刻胶图案所需的，受到国家安全和反恐管制的约束。用于为5nm生产精加工晶圆的技术受新的ECCN 3E004的管制：该规则为CCL添加了ECCN 3E004;ECCN 3E004管制用于生产高端集成电路基板的技术，它们旨在应用于面向5 nm生产的晶圆。受管制技术包括：对直径300 mm的硅晶圆进行切片、打磨和抛光以达到某些标准所需要的技术，以及尽量减小平坦度(或SFQR)和表面缺陷的技术以及局部光散射体(LLS)。这些技术受到国家安全和反恐管制的约束。可以规避计算机(或通信设备)方面的身份验证或授权控制措施，并提取原始数据的数字取证分析工具添加到ECCN 5A004中：BIS扩大了ECCN 5A004的范围，以管制可以迅速分析设备并恢复受保护信息的硬件，包括通过破解、操纵、利用及/或绕过制造商安装在设备上的安全措施。这项新的ECCN即5A004.b并非旨在管制提取设备上不受保护的数据的产品、生产或测试设备、系统管理工具或用于零售用途(比如解锁手机)的工具。相应的软件管制已添加到5D002。这些产品受到国家安全和反恐管制的约束。用于通过侦听接口来监测和分析从电信服务提供商处获得的通信和元数据的软件添加到ECCN 5D001：BIS添加了ECCN 5D001.e，这涵盖专门经过设计或修改，供执法部门用于分析从侦听接口获取的通信内容或元数据。该软件必须提供以下两种功能：1)基于硬选择器，使用“侦听接口”对从通信服务提供商获取的通信内容或元数据执行搜索;以及2)根据搜索通信内容或元数据的结果，映射关系网络或跟踪针对性个人的活动。这项新内容并不管制网络管理工具或银行软件。软件受到国家安全和反恐管制的约束。亚轨道飞行器添加到ECCN 9A004.h：BIS已将亚轨道飞行器添加到了以前应用于CCL第9类中的太空发射器和“航天器”的管制。亚轨道飞行器旨在在平流层上方运行，不完成轨道就降落在地球上。因此，它并不符合“航天器”的定义，“航天器”仅限于卫星和太空探测器。飞行器受到国家安全、区域稳定和反恐管制的约束。中国出台出口管制法
中国方面，《中华人民共和国出口管制法》已由第十三届全国人民代表大会常务委员会第二十二次会议于2020年10月17日通过，并从2020年12月1日起施行，中国管制法实行引发了外国媒体的密切关注。在管制法中，中国除了将核材料等纳入管制范围内，其他一些维护中国国家安全等货物也纳入其中。
该法规定，任何国家或者地区滥用出口管制措施危害中国国家安全和利益的，中国可以根据实际情况对该国家或者地区对等采取措施。出口管制是指对特定物项的出口采取禁止或者限制性措施，以对该物项的使用主体或者用途进行控制。实施出口管制，是国际通行的履行防扩散等国际义务的做法。当下，出口管制正成为维护国家安全和利益的重要手段。出口管制法包括总则，管制政策、管制清单和管制措施，监督管理，法律责任，附则五章，共49条。该法明确了出口管制范围，确保管制物项、管制主体和行为全覆盖，规定：从中国境内向境外转移管制物项，以及中国公民、法人和非法人组织向外国组织和个人提供管制物项，均受本法约束。据报道，美国近年来将注意力放在提高国家地位以及打压其他国家发展上，国内制造业发展落后，国产开机械等已经无法满足美国制作武器以及其他大型设备的需求，不得已，美国只能通过向其他国家进口机械。而中国是美国主要机械进口国，因为中国机械质量等能够满足美国要求。虽然其他国家也有出口机械等，但由于国内制造加工技术并不先进，所以所出口机械无法让美国满意。如今中国出台管制法案，对一些机械器材进行限制出口，美国将无法从中国进口所需机械，这使美国政府官员暴跳如雷，他们表示，中方这一做法将直接影响到美国武器制作，美国会面临断供危机。免责声明：本文系网络转载，版权归原作者所有。但因转载众多，或无法确认真正原始作者，故仅标明转载来源，如涉及作品版权问题，请与我们联系，我们将在第一时间协商版权问题或删除内容！内容为作者个人观点，并不代表本公众号赞同其观点和对其真实性负责。